Funcionarios de EE. UU. expresan preocupación por equipos de ASML en China

Según Bloomberg, el secretario de Comercio de EE. UU., Howard Lutnick, ha expresado su preocupación de que una máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV) de ASML pueda haber llegado a China. Altos funcionarios de la administración afirman tener pruebas de que ASML envió componentes y equipos de transporte relacionados con la tecnología EUV a China, aunque se han negado a compartirlas. ASML, sin embargo, asegura que no existe ninguna máquina EUV en China y que nunca ha existido allí.

ASML es un cuello de botella crítico en la cadena de suministro global de inteligencia artificial (IA). La empresa tiene el monopolio de la litografía EUV, el proceso de impresión de patrones de circuitos microscópicos. Cada procesador fabricado por TSMC, la fundición (fábrica de manufactura de chips) detrás de los chips de Nvidia, depende de las herramientas de ASML. Desarrollar la tecnología para generar luz EUV tomó 20 años por sí sola, aunque el CEO de ASML, Christophe Fouquet, señaló que el 80% de la máquina ya existía a partir de conocimientos previos. Este monopolio ha contribuido a elevar la capitalización de mercado de ASML a alrededor de USD 700 mil millones.

Fouquet ha defendido los protocolos de seguridad de la empresa. En una entrevista hace seis semanas, declaró: “ASML rastrea cada máquina que ha enviado; o están en uso activo con clientes monitoreados o han sido desmanteladas y devueltas a la empresa”. La empresa mantiene estrictos cortafuegos internos para evitar que el personal con sede en China acceda a la tecnología EUV. Además, ASML espera que aproximadamente el 20% de sus ingresos de 2026 provengan de ventas permitidas de sistemas de litografía ultravioleta profunda (DUV) más antiguos a China. Arriesgar sus licencias de exportación pondría en peligro estos ingresos por una sola “venta ilegal”.

Mientras tanto, el gobierno de EE. UU. está explorando tecnologías alternativas. El Departamento de Comercio ha acordado invertir hasta USD 150 millones de dinero de los contribuyentes en xLight, una startup que desarrolla tecnología de fuentes de luz de próxima generación. También están surgiendo otros esfuerzos privados; el inversionista Peter Thiel ha respaldado a Substrate, una startup que busca desarrollar tecnología rival a la EUV. Estos desarrollos ocurren mientras un proyecto de ley bipartidista, que fue aprobado por un comité clave en abril, busca prohibir todos los envíos de DUV a China, amenazando potencialmente una parte de los ingresos esperados de ASML para 2026.

Por qué importa

ASML es la empresa más crítica en el despliegue global de IA fuera de Nvidia. Un envío confirmado de una máquina EUV a China representaría “una de las violaciones más trascendentales del régimen de control de exportaciones” diseñado para mantener las capacidades avanzadas de IA fuera de la base militar e industrial de Pekín.